光計測用高機能光学系・光計測システムソリューション

光応用計測・検査装置 汎用光ビームプロファイル計測システム

エンサークルドフラックス・エンサークルドアンギュラーフラックス計測装置

製品の概要
エンサークルドフラックス・エンサークルドアンギュラーフラックス計測装置

mscopetypes

EF(エンサークルドフラックス)/EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス)計測装置は 、光ファイバ端面のNFP画像(ニアフィールドパターン:近視野像)、FFP画像(ファーフィールドパターン:遠視野像)を画像処理・解析し、GI型/SI型マルチモード光ファイバのモード伝播状態を光学的に計測・解析する装置です。

光学系は、当社製NFP計測光学系 M-Scope type S(EF計測用)、FFP計測光学系MScope type F(EAF計測用)を使用、2次元画像検出器および当社製EF/EAF測定機能付光ビーム解析モジュール AP013との組合せによりEF/EAF計測を迅速・簡単に実行できます。

エンサークルドフラックス・エンサークルドアンギュラーフラックス計測について

エンサークルドフラックス(Encircled Flux)・エンサークルドアンギュラーフラックス(Encircled Angular Flux)解析

マルチモード光ファイバの損失は、励振状態により変化するため、測定時の励振状態を規定する必要があります。その励振状態を定義する新しい測定方法として、EF(エンサークルドフラックス)/EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス)が使用されます。特に、高速なマルチモード光ファイバ伝送ではEF/EAFが重要な役割をはたしています。

一般的に、EF(エンサークルドフラックス)はGI型(グレーデッドインデックス型光ファイバ)、EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス)はSI型(ステップインデックス型光ファイバ)の指標にされることが多いといえます。

EF・EAF測定規格

10Gbps等の高速な伝送に対応するために、GI型マルチモード光ファイバの新しい励振条件の規定法としてエンサークルドフラックス測定法は、IEC  61280-1-4で規定されています。

一方、SI型マルチモード光ファイバに関しては、エンサークルドアンギュラーフラックス測定法が、IEC 61300-3-53で規定されています。

エンサークルドフラックス(Encircled Flux)解析

EF(エンサークルドフラックス)とは、光ファイバ端面の光強度分布を中心から外周部に向かって積分した値で、光モード分布が全体の光強度に対して、中心から半径rまでのどの範囲にどの程度の割合が存在するかを示す指標であり、左図のグラフで示されます。

EF計測は、NFP計測光学系を使用して取得した光ファイバ端面のNFP画像をもとに解析を行います(装置構成は下記をご参照ください)。

エンサークルドアンギュラーフラックス(Encircled Angular Flux)解析

エンサークルドフラックスが、光ファイバの端面の強度分布を規定した測定法であるのに対し、エンサークルドアンギュラーフラックスは光ファイバ端面からの出射角度の強度分布を、中心から出射角度拡がり方向(N.A.)に向かって積分した値です。

EAF計測は、FFP計測光学系を使用して取得した光ファイバ出射光のFFP画像をもとに解析を行います(装置構成は下記をご参照ください)。

製品の特長

製品の主な応用

  • GI(グレーデッドインデックス)型・SI(ステップインデックス)型マルチモード光ファイバのモード伝播特性評価
  • プラスチック光ファイバのモード伝播特性評価
  • ポリマー光導波路・光配線板のモード伝播特性評価

製品の構成・コンポーネントセレクション

装置の構成図
主要構成品 エンサークルドフラックス計測装置
主要構成品 エンサークルドアンギュラーフラックス計測装置
オプション・アクセサリ セレクション

EF/EAF解析機能付光ビーム計測ソフトウエア Optometrics BA Standard

当社の光ビーム計測解析ソフトウエア Optometrics BA Standardでは、エンサークルドフラックス(EF)・エンサークルドアンギュラーフラックス(EAF)解析機能を標準で搭載しています。

EF/EAF解析とグラフの表示機能の他、EF/EAFマスクの表示機能も付加しています。解析したEF/EAFグラフはcsv形式で出力可能です。

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技術情報

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