光計測用光学機器と光計測システムのシナジーオプトシステムズ

カタログ用語の解説 【データ処理解析関連用語】

EF(エンサークルドフラックス)/EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス)解析 EF(エンサークルドフラックス : Encircled Flux)/EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス : Encircled Angular Flux)は、共にマルチモードファイバの励振状態を規定するための指標として使用される。GIファイバの場合はEFが、SIファイバの場合はEAFが適用される。
●EF(エンサークルドフラックス)
EF(エンサークルドフラックス)は、全出力光パワーに対するニアフィールド光パワーの総和の割合。光ファイバコアの光学中心から測った半径方向の距離rの関数として表し,次式で定義する。
●EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス)
EAF(エンサークルドアンギュラーフラックス)とは、全出力光パワーに対するファーフィールド光パワーの総和の割合。ファーフィールド像の光学中心軸と出射光との角度θ'の関数として表し,次式で定義する。
D86 ビーム径の定義の一つで、NFPビームプロファイルの重心位置より半径rの円形領域を設定し、その円形領域内にトータルパワーの86.5%が含まれるときの円の直径(=2r)。EFの測定より、EFの値が86.5%となるrの値を算出することにより取得が可能。ビームプロファイル形状がガウシアン分布の場合、1/e2幅と同値となる。
D4σ  ビーム径の定義の一つで、NFPビームプロファイルの輝度分布より2次モーメント(分散)を求めることにより算出される。X方向およびY方向のD4σの値は、下記の式で表される。D4σの値は、ビームスポット周囲のノイズの影響に敏感なため、ダークノイズ成分の処理や解析範囲の設定に注意が必要。ビームプロファイル形状がガウシアン分布の場合、1/e2幅と同値となる。
●D4σ x
●D4σ y