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損失の異なるSI型マルチモード光ファイバに当社限定空間励振光学系を使用して、励振状態の違いによるエンサークルドアンギュラーフラックスの変化を調べます。光源には850nmSLD光源を使用します。励振光学系は、当社限定空間励振光学系　M-Scope type Gを使用し、光ファイバ入射光のN.A.を変化させます。出射側は、当社製FFP計測光学系　M-Scope type Fを使用して放射角度分布画像を取得し、当社光ビーム解析モジュール　AP013によりエンサークルドアンギュラーフラックス解析を行います。

• エンサークルドアンギュラーフラックス（EAF）計測装置
  • 光源
    • FCコネクタ出力型温調高安定SLD光源（850nm）　LSS002/850
  • 励振器
    • 限定空間励振光学系　M-Scope type G
    • 手動5軸ステージ付ファイバ測定用光学系架台　OP002-F5
  • 光学系
    • FFP計測光学系　M-Scope type F
    • 手動3軸ステージ付ファイバ測定用光学系架台　OP002-F3
  • 検出器
    • 高精度デジタルCCD検出器　ISA011
  • データ処理装置
    • 光ビーム解析モジュール（ISA011用）　AP013D-01

• 光源の選定
  • 光学系は測定波長850nm帯の低コヒーレント光源として、当社製SLD光源　LSS002/850を使用しました。
• 励振器
  • 励振器は、入射N.A.を光学的に連続可変可能な、当社製　限定空間励振光学系　M-Scope type Gを使用しました。
• 光学系の選定
  • 光学系は、アンギュラーエンサークルドフラックス測定を目的とするため、当社製FFP計測光学系　M-Scope type Fを使用しました。