光計測用光学機器と光計測システムのシナジーオプトシステムズ

(FILE No. A2-3) 励振状態の違いによるエンサークルドアンギュラーフラックスの変化を調べる

アプリケーションの概要

損失の異なるSI型マルチモード光ファイバに当社限定空間励振光学系を使用して、励振状態の違いによるエンサークルドアンギュラーフラックスの変化を調べます。光源には850nmSLD光源を使用します。励振光学系は、当社限定空間励振光学系 M-Scope type Gを使用し、光ファイバ入射光のN.A.を変化させます。出射側は、当社製FFP計測光学系 M-Scope type Fを使用して放射角度分布画像を取得し、当社光ビーム解析モジュール AP013によりエンサークルドアンギュラーフラックス解析を行います。

測定系

測定系のブロック図

測定系の構成

測定結果

入射N.A.を変化させた場合のエンサークルドアンギュラーフラックス解析結果のグラフを左図および下記に示します。

  • グラフは、上からN.A.0.10→0.15→0.20→0.25→0.30→0.35と変化させた場合のEAF解析結果です。

これより、N.A.が0.1から大きくなっていき、励振光のN.A.が全モード励振に近くなるほど、エンサークルドアンギュラーフラックスの差がなくなっていくことがわかります。

測定系構築の機器選定のポイント

  • 光源の選定
    • 光学系は測定波長850nm帯の低コヒーレント光源として、当社製SLD光源 LSS002/850を使用しました。
  • 励振器
    • 励振器は、入射N.A.を光学的に連続可変可能な、当社製 限定空間励振光学系 M-Scope type Gを使用しました。
  • 光学系の選定
    • 光学系は、アンギュラーエンサークルドフラックス測定を目的とするため、当社製FFP計測光学系 M-Scope type Fを使用しました。

追加情報・関連情報